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离子注入设备

离子注入机是集成电路装备中较为复杂的设备之,根据注入离子的能量和剂量的不同,离子注入机大体分为低能大束流离子注入机、中束流离子注入机和高能离子注入机3种类型。离子注入设备销售热线:13372148009。

产品详情

离子注入设备

离子注入设备组成结构

离子注入机由5部分组成:离子源、离子引出和质量分析器、加速管、扫描系统、工艺腔。

离子注入设备工艺原理

离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成,可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位,作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子,决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子,当外来电子的能量高于原子的电离电位时,通过碰撞使元素发生电离。

离子注入设备分类

低能大束流离子注入机:大束流的注入机的束流可以达到几毫安甚至几十毫安,注入剂量范围 。能量低于100keV,由于器件的特征尺寸不断缩小,需要更低能量的注入,以形成浅结或超浅结,有的大束流的注入机的最低能量可以达到0.2keV。高能离子注入机:高能注入机的能量可高达几MeV,注入剂量为 。中束流离子注入机:中束流注入机的注入能量在几百keV范围内,注入剂量范围比高能注入机大。

离子注入设备工业应用

离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行精确的控制,克服了常规工艺的限制,提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命,降低了成本和功耗。离子注入机广泛用于掺杂工艺,可以满足浅结、低温和精确控制等要求,已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。

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