离子注入机由5部分组成：离子源、离子引出和质量分析器、加速管、扫描系统、工艺腔。
离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量高于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。
低能大束流离子注入机：大束流的注入机的束流可以达到几毫安甚至几十毫安，注入剂量范围 。能量低于100keV，由于器件的特征尺寸不断缩小，需要更低能量的注入，以形成浅结或超浅结，有的大束流的注入机的最低能量可以达到0.2keV。高能离子注入机：高能注入机的能量可高达几MeV，注入剂量为 。中束流离子注入机：中束流注入机的注入能量在几百keV范围内，注入剂量范围比高能注入机大。
离子注入与常规热掺杂工艺相比可对注入剂量、注入角度、注入深度、横向扩散等方面进行精确的控制，克服了常规工艺的限制，提高了电路的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗。离子注入机广泛用于掺杂工艺，可以满足浅结、低温和精确控制等要求，已成为集成电路制造工艺中必不可少的关键装备。
扫描二维码 关注微信
